1、PVD 鍍膜材料概述
　　
　　PVD 鍍膜材料主要用以制(zhì)備各種具有(yǒu)特定功能的薄膜材料，應用領域包括平闆顯示、半導體(tǐ)、太陽能電(diàn)池、光磁記錄媒體(tǐ)、 光學元器(qì)件、 節能玻璃、 LED、工具改性、裝飾用品等。
　　
　　(1)薄膜材料制(zhì)備技(jì)術(shù)概述
　　
　　薄膜材料生(shēng)長在基體(tǐ)材料(如玻璃、光學玻璃等)上(shàng)，通(tōng)常由金屬、非金屬、合金或複合材料的塗層形成。它具有(yǒu)高(gāo)滲透性、吸收性、截止性、光分離性、反射性、過濾性、幹擾性、防護性、防水(shuǐ)防污性、抗靜電(diàn)性、導電(diàn)性、導磁性、絕緣性、耐磨性。具有(yǒu)耐高(gāo)溫、耐腐蝕、耐氧化、防輻射、裝飾重組等功能，可(kě)提高(gāo)産品質量、環保、節能、延長産品使用壽命。
　　
　　提高(gāo)原有(yǒu)性能等。目前，薄膜的制(zhì)備技(jì)術(shù)主要包括物理(lǐ)氣相沉積(PVD)和(hé)化學氣相沉積(CVD)。
　　
　　薄膜材料生(shēng)長于基闆材料(如屏顯玻璃、光學玻璃等)之上(shàng)，一般由金屬、非金屬、合金或化合物等材料經過鍍膜後形成，具有(yǒu)增透、吸收、截止、分光、反射、濾光、幹涉、保護、防水(shuǐ)防污、防靜電(diàn)、導電(diàn)、導磁、絕緣、耐磨損、耐高(gāo)溫、耐腐蝕、抗氧化、防輻射、裝飾和(hé)複合等功能，并能夠提高(gāo)産品質量、環保、節能、延長産品壽命
　　
　　改善原有(yǒu)性能等。目前，薄膜材料制(zhì)備技(jì)術(shù)主要包括物理(lǐ)氣相沉積(PVD)技(jì)術(shù)和(hé)化學氣相沉積(CVD)技(jì)術(shù)。
　　
　　①CVD技(jì)術(shù)
　　
　　CVD 技(jì)術(shù)是在高(gāo)溫下依靠化學反應、把含有(yǒu)構成薄膜元素的氣态反應劑或液态反應劑的蒸氣及反應所需其它氣體(tǐ)引入反應室，在襯底表面發生(shēng)化學反應生(shēng)成薄膜材料的技(jì)術(shù)。
　　
　　②PVD技(jì)術(shù)
　　
　　PVD 技(jì)術(shù)是制(zhì)備薄膜材料的主要技(jì)術(shù)之一，指在真空(kōng)條件下采用物理(lǐ)方法，将某種物質表面氣化成氣态原子、分子或部分電(diàn)離成離子，并通(tōng)過低(dī)壓氣體(tǐ)(或等離子體(tǐ))過程，在基闆材料表面沉積具有(yǒu)某種特殊功能的薄膜材料的技(jì)術(shù)。在PVD 技(jì)術(shù)下，用于制(zhì)備薄膜材料的物質，統稱為(wèi) PVD 鍍膜材料。經過多(duō)年發展，PVD 技(jì)術(shù)已成為(wèi)目前主流鍍膜方法，主要包括濺射鍍膜和(hé)真空(kōng)蒸發鍍膜。
　　
　　A、光學鍍膜材料真空(kōng)蒸發鍍膜
　　
　　真空(kōng)蒸發鍍膜是指在真空(kōng)條件下，利用膜材加熱裝置(稱為(wèi)蒸發源)的熱能，通(tōng)過加熱蒸發某種物質使其沉積在基闆材料表面的一種沉積技(jì)術(shù)。被蒸發的物質是用真空(kōng)蒸發鍍膜法沉積薄膜材料的原材料，稱之為(wèi)蒸鍍材料。
　　
　　真空(kōng)蒸發鍍膜系統一般由三個(gè)部分組成：真空(kōng)室、蒸發源或蒸發加熱裝置、放置基闆及給基闆加熱裝置。在真空(kōng)中為(wèi)了蒸發待沉積的材料，需要容器(qì)來(lái)支撐或盛裝蒸發物，同時(shí)需要提供蒸發熱使蒸發物達到足夠高(gāo)的溫度以産生(shēng)所需的蒸汽壓。真空(kōng)蒸發鍍膜的基本原理(lǐ)如下：
　　
　　真空(kōng)蒸發鍍膜技(jì)術(shù)具有(yǒu)簡單便利、操作(zuò)方便、成膜速度快等特點，是應用廣泛的鍍膜技(jì)術(shù)，主要應用于小(xiǎo)尺寸基闆材料的鍍膜。
　　
　　B、光學鍍膜材料濺射鍍膜
　　
　　濺射鍍膜是指利用離子源産生(shēng)的離子，在真空(kōng)中經過加速聚集，而形成高(gāo)速度的離子束流，轟擊固體(tǐ)表面，離子和(hé)固體(tǐ)表面原子發生(shēng)動能交換，使固體(tǐ)表面的原子離開(kāi)固體(tǐ)并沉積在基闆材料表面的技(jì)術(shù)。被轟擊的固體(tǐ)是用濺射法沉積薄膜材料的原材料，稱為(wèi)濺射靶材。
　　
　　一般來(lái)說，濺射靶材主要由靶坯、背闆(或背管)等部分構成，其中，靶坯是高(gāo)速離子束流轟擊的目标材料，屬于濺射靶材的核心部分，在濺射鍍膜過程中，靶坯被離子撞擊後，其表面原子被濺射飛散出來(lái)并沉積于基闆上(shàng)制(zhì)成薄膜材料;由于濺射靶材需要安裝在專用的設備內(nèi)完成濺射過程，設備內(nèi)部為(wèi)高(gāo)電(diàn)壓、高(gāo)真空(kōng)的工作(zuò)環境，多(duō)數(shù)靶坯的材質較軟或者高(gāo)脆性，不适合直接安裝在設備內(nèi)使用，因此，需與背闆(或背管)綁定， 背闆(或背管)主要起到固定濺射靶材的作(zuò)用，且具備良好的導電(diàn)、導熱性能。
　　
　　光學鍍膜材料濺射鍍膜的基本原理(lǐ)如下：
　　
　　濺射鍍膜工藝可(kě)重複性好、膜厚可(kě)控制(zhì)，可(kě)在大(dà)面積基闆材料上(shàng)獲得(de)厚度均勻的薄膜，所制(zhì)備的薄膜具有(yǒu)純度高(gāo)、緻密性好、與基闆材料的結合力強等優點，已成為(wèi)制(zhì)備薄膜材料的主要技(jì)術(shù)之一，各種類型的濺射薄膜材料已得(de)到廣泛的應用，因此，對濺射靶材這一具有(yǒu)高(gāo)附加值的功能材料需求逐年增加，濺射靶材亦已成為(wèi)目前市場(chǎng)應用量很(hěn)大(dà)的 PVD 鍍膜材料。