稀貴金屬薄膜是電(diàn)子信息産業起核心支撐作(zuò)用的戰略性材料。濺射靶材是制(zhì)備薄膜的關鍵源材料，主要應用于電(diàn)子及信息産業，如集成電(diàn)路、信息存儲、液晶顯示屏、激光存儲器(qì)、電(diàn)子控制(zhì)器(qì)件等；亦可(kě)應用于玻璃鍍膜領域；還(hái)可(kě)以應用于耐磨材料、高(gāo)溫耐蝕、裝飾用品等行(xíng)業。
　　
　　目前，在稀貴金屬靶材的制(zhì)備主要集中在日本、美國、德國等國家(jiā)。國內(nèi)與國際差距集中在濺射靶材上(shàng)遊材料（主要在純原材料方面）與服務于集成電(diàn)路先進制(zhì)程的新産品兩大(dà)領域。
　　
　　通(tōng)過新技(jì)術(shù)的攻關和(hé)應用，實現了靶材産品的主要性能指标靶材度 99.995wt%、靶材主成分偏差0.5wt%以內(nèi)、靶材密度 98.5%、靶材與背闆焊合率 98.5％。其中，今年7月鎳鉑靶材研發成果打破了國外壟斷，使同類産品實現了替代進口，并出口至美國知名半導體(tǐ)公司。
　　
　　另據了解，鍍膜靶材是通(tōng)過磁控濺射、多(duō)弧離子鍍或其他類型的鍍膜系統在适當工藝條件下濺射在基闆上(shàng)形成各種功能薄膜的濺射源。簡單說的話(huà)，靶材就是高(gāo)速荷能粒子轟擊的目标材料，用于高(gāo)能激光武器(qì)中，不同功率密度、不同輸出波形、不同波長的激光與不同的靶材相互作(zuò)用時(shí)，會(huì)産生(shēng)不同的殺傷破壞效應。例如：蒸發磁控濺射鍍膜是加熱蒸發鍍膜、鋁膜等。更換不同的靶材（如鋁、銅、不鏽鋼、钛、鎳靶等），即可(kě)得(de)到不同的膜系（如超硬、耐磨、防腐的合金膜等）。